康信视点 | 清楚的化合物晶体发明权利要求书应该这么写

2017-08-09 19:51:17
化学领域的发明在申请和审查过程中总是会遇到一些特殊情况。笔者近期在实际工作中发现,对于化合物晶体发明的权利要求书而言,存在一些特殊的清楚问题。以下是笔者在代理工作中遇到的一些情况,与大家一起分享,旨在为申请人和代理人在撰写化合物晶体发明的权利要求书时提供一些参考和帮助。

作者 | 张晓影 徐丽华  北京康信知识产权代理有限责任公司 

(本文系知产力获得授权的稿件,转载须征得作者本人同意,并在显要位置注明文章来源。)

 

(本文2199字,阅读约需4分钟)


化学领域的发明在申请和审查过程中总是会遇到一些特殊情况。笔者近期在实际工作中发现,对于化合物晶体发明的权利要求书而言,存在一些特殊的清楚问题。以下是笔者在代理工作中遇到的一些情况,与大家一起分享,旨在为申请人和代理人在撰写化合物晶体发明的权利要求书时提供一些参考和帮助。


专利法第26条第4款规定,权利要求书应当以说明书为依据,清楚、简要地限定要求专利保护的范围。权利要求书是否清楚,对于确定发明或者实用新型要求保护的范围是极其重要的。


(1)权利要求的特殊撰写方式


根据《专利审查指南》第二部分第二章第3.3节规定,权利要求中可以有化学式或者数学式,但是不得有插图。除绝对必要外,权利要求中不得使用“如说明书…部分所述”或者“如图…所示”等类似用语。绝对必要的情况是指当发明或者实用新型涉及的某特定形状仅能用图形限定而无法用语言表达时,权利要求可以使用“如图…所示”等类似用语。权利要求中通常不允许使用表格,除非使用表格能够更清楚地说明发明或者实用新型要求保护的主题1。


在化学领域(除了化合物晶体以外)中,如果权利要求中使用“如图…所示”等的类似表述,审查员通常会认为该权利要求不清楚。


然而,在化合物晶体发明中,允许申请人在化合物晶体权利要求中通过使用表格和/或“如图…所示”等类似用语,将用于表征晶体的参数限定至权利要求中。例如:一种式(I)化合物的晶体,具有图1中所示的X射线粉末衍射图谱。


(2)权利要求中应当记载可以表征晶体的特征


一项化合物晶体权利要求中应当记载化合物的化学名称和/或结构式以说明化合物的化学结构,同时还应当至少记载可以表征晶体的特征,例如,X射线粉末衍射图谱、晶体晶胞参数或空间群等,从而使得本领域技术人员可以确认该权利要求想要保护的具体晶型。


(3)技术特征“选自…中的一种或多种”


在专利申请文件中,当权利要求中出现“选自…中的一种或多种”时,如果其限定的是多个等同的技术方案,则该权利要求的保护范围是清楚的。


例如,一件专利申请的从属权利要求被撰写为“根据权利要求1所述的组合物,其中,所述金属选自钠、钾、镁、钙、铝、铁中的两种或更多种”。在审查实践中,审查员认为该从属权利要求中所限定的“两种或更多种”是清楚的,因为其限定了多个等同的技术方案,例如,钠和钾,钠和镁,钠、钾和镁等。


在化合物晶体发明中,笔者也遇到了类似的撰写方式,例如,一件专利申请的从属权利要求被撰写为“根据权利要求1所述的结晶化合物,表征为包括选自具有以下2θ角的峰中的四个或更多个峰的XRPD光谱:8.82、12.07、14.43、14.92、16.26、18.25、19.06、19.78、20.82和23.51±0.1度的2θ”。那么,该权利要求中所限定的“四个或更多个”是否清楚呢?


如以上所提及的,在权利要求中出现“选自…中的一种或多种”时,只有其限定的多个技术方案等同时,该权利要求的保护范围才是清楚的。那么,要想判断采用以上方式限定的权利要求的保护范围是否清楚,首要问题是确定该权利要求所限定的多个技术方案是否等同。


晶体领域的技术人员已知,在晶体领域中,某种化合物是否存在晶体形式、存在多少种晶体形式以及存在何种晶体形式不具有可预期性,因此,新晶型的获得一般需要依赖实验结果加以确认,如以上提及的X射线粉末衍射图谱。对于化合物晶体来说,通常它们的X射线粉末衍射图谱中存在很多个峰,在权利要求中仅采用X射线粉末衍射图谱中的一个或少数几个衍射峰来表征该晶体时,通常不能确定由这个衍射峰或这些衍射峰表征的晶体是否为申请人实际制备得到的晶体。


对于以上所提及的晶体化合物的从属权利要求,当选择具有2θ角为8.82、12.07、14.43、和14.92的四个峰时,其表征包括这四个峰的多种晶体。具体而言,假设该化合物存在A、B、C三种晶体,三种晶体均具有2θ角为8.82、12.07、14.43、和14.92的四个峰,除此之外,A、B、C三种晶体还具有一些不同的峰,例如,晶体A具有2θ角为16.26的峰,晶体B具有2θ角为18.25的峰,以及晶体C具有2θ角为19.06的峰。那么,当我们仅选择具有2θ角为8.82、12.07、14.43、和14.92的四个峰时,该权利要求包含晶体A、B、C三种晶体(以下称为技术方案1),当我们选择具有2θ角为8.82、12.07、14.43、14.92、和16.26的五个峰时,该权利要求仅包含晶体A(以下称为技术方案2)。从以上可以看出,技术方案1与技术方案2并非等同的技术方案,而是属于具有上下位关系的两种保护范围。即,当从以上给出的XRPD光谱中选择不同的峰时,其表征的晶体不仅仅包括了该发明所制备的晶体,同时还可能包括了该发明没有制得的其他不可预期的晶体在内。这样,在该化合物晶体发明的权利要求中由选自XRPD光谱的不同峰所表明的晶体的保护范围并不是等同的,即一项权利要求中同时存在具有上下位关系的两种保护范围,导致该权利要求的保护范围不清楚。


此外,由于该化合物晶体发明的权利要求中采用了表达方式“选自具有以下2θ角的峰中的四个或更多个峰的XRPD光谱”对化合物晶体进行表征,其可能包括了该申请中并未制备得到的其他不可预期的晶体,因此,该权利要求还存在得不到说明书支持的缺陷。


因此,在撰写化合物晶体发明的权利要求书时,申请人和代理人需要综合考虑上述问题,合理限定请求保护的化合物晶体,使得权利要求书的保护范围清楚并且能够得到说明书的支持。


本文仅是笔者在实践中的一些体会,仅起抛砖引玉的作用,如有不妥之处,希望读者多加指正。


参考文献:


1.《专利审查指南》,知识产权出版社,2010

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